國際標準簡稱：DISPLAYS
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《Displays》是一本專注于COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE領域的English學術期刊，創刊于1979年，由Elsevier出版商出版，出版周期Bimonthly。該刊發文范圍涵蓋COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE等領域，旨在及時、準確、全面地報道國內外COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE工作者在該領域的科學研究等工作中取得的經驗、科研成果、技術革新、學術動態等。該刊已被SCIE數據庫收錄，在中科院最新升級版分區表中，該刊分區信息為大類學科工程技術2區，2023年影響因子為3.7。
Displays is the international journal covering the research and development of display technology, its effective presentation and perception of information, and applications and systems including display-human interface.
Technical papers on practical developments in Displays technology provide an effective channel to promote greater understanding and cross-fertilization across the diverse disciplines of the Displays community. Original research papers solving ergonomics issues at the display-human interface advance effective presentation of information. Tutorial papers covering fundamentals intended for display technologies and human factor engineers new to the field will also occasionally featured.
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 2區 | COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計算機：硬件 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 2區 2區 2區 3區 | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 2區 | COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計算機：硬件 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 2區 2區 2區 3區 | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 3區 | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計算機：硬件 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 OPTICS 光學 | 3區 4區 4區 4區 | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區 | COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計算機：硬件 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 | 4區 4區 4區 4區 | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 3區 | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計算機：硬件 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 OPTICS 光學 | 3區 4區 4區 4區 | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 3區 | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學 COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計算機：硬件 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區 3區 4區 4區 | 否 | 否 |
中科院分區：中科院分區是SCI期刊分區的一種，是由中國科學院國家科學圖書館制定出來的分區。主要有兩個版本，即基礎版和升級版。2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區表推出了升級版，實現了基礎版和升級版的并存過渡；升級版是對基礎版的延續和改進，將期刊由基礎版的13個學科擴展至18個，科研評價將更加明確。
| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE | SCIE | Q1 | 14 / 59 |
77.1%
|
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 112 / 352 |
68.3%
|
| 學科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q1 | 17 / 76 |
78.3%
|
| 學科：OPTICS | SCIE | Q2 | 30 / 119 |
75.2%
|
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE | SCIE | Q2 | 19 / 59 |
68.64%
|
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 111 / 354 |
68.79%
|
| 學科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q1 | 17 / 76 |
78.29%
|
| 學科：OPTICS | SCIE | Q2 | 35 / 120 |
71.25%
|
JCR分區：JCR（Journal Citation Reports）由科睿唯安公司（前身為湯森路透）開發。JCR沒有設置大類,只將期刊分為176個具體學科，也就是中科院分區中的小類學科。基于不同學科的當年影響因子高低進行排序，將期刊的數量均勻分為四個部分，Q1區代表學科分類中影響因子排名前25%的期刊，以此類推，Q2區為前25%-50%期刊，Q3區為前50%-75%期刊，Q4區為75%以后期刊。
CiteScore排名：
| 學科類別 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 291 / 797 |
63%
|
| 大類：Engineering 小類：Hardware and Architecture | Q2 | 75 / 177 |
57%
|
| 大類：Engineering 小類：Human-Computer Interaction | Q3 | 80 / 145 |
45%
|
CiteScore值計算方式：例如2024公布的CiteScore是將統計在 2020年-2023年間年所發表文章的引用次數除以在 2020年-2023年間所發表的發文總數。
CiteScore數據來源：是由全球著名學術出版商Elsevier（愛思唯爾）基于其Scopus數據庫推出的期刊評價指標。CiteScore指數以四年區間為基準來計算每本期刊的平均被引用次數，并提供期刊領域排名、期刊分區的相關信息，它的作用是測量期刊的篇均影響力。
近年中科院分區趨勢圖
近年IF值(影響因子)趨勢圖
影響因子：是美國科學信息研究所(ISI)的期刊引證報告(JCR)中的一項數據。指的是某一期刊的文章在特定年份或時期被引用的頻率，是衡量學術期刊影響力的一個重要指標。自1975年以來，每年定期發布于“期刊引證報告”(JCR)。
| 文章引用名稱 | 引用次數 |
| Separable reversible data hi... | 26 |
| Postural stability predicts ... | 12 |
| deepGesture: Deep learning-b... | 11 |
| Effects of virtual presence ... | 7 |
| Reversible data hiding for J... | 6 |
| Effects of display type and ... | 6 |
| Effects of postural stabilit... | 6 |
| The effects of correlated co... | 5 |
| Eye movement measures for pr... | 5 |
| The effect of visual motion ... | 4 |
| 被引用期刊名稱 | 數量 |
| DISPLAYS | 72 |
| APPL ERGON | 33 |
| INT J IND ERGONOM | 25 |
| IEEE ACCESS | 23 |
| OPT EXPRESS | 23 |
| J SOC INF DISPLAY | 19 |
| MULTIMED TOOLS APPL | 19 |
| J MATER CHEM C | 15 |
| OPTIK | 14 |
| APPL SCI-BASEL | 13 |
| 引用期刊名稱 | 數量 |
| DISPLAYS | 72 |
| EXP BRAIN RES | 60 |
| HUM FACTORS | 36 |
| PERCEPTION | 34 |
| APPL ERGON | 22 |
| PLOS ONE | 20 |
| VISION RES | 20 |
| COLOR RES APPL | 15 |
| J VISION | 15 |
| BRAIN RES BULL | 13 |
1、建議稿件控制10頁以上，文章撰寫語言為英語；（單欄格式，單倍行距，內容10號字體，文稿類型包含：原創研究(Original Research)、案例報告(Case Report)、文獻綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。
2、稿件重復率控制10%以內，論文務必保證原創性、圖標、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發表或引用過度的文章將不會被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機械性的稿件。
3、稿件必須有較好的英語表達水平，有圖，有表，有公式，有數據或設計，有算法（方案，模型），實驗，仿真等；參考文獻控制25條以上，參考文獻引用一半以上控制在近5年以內。
圖片和圖表要求：1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。
2、文件大小最大不超過20MB，不要以單個文件的形式上傳數據。
3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。
4、線條不要細于0.25pt,也不能太粗，超過1.5pt,過細或過粗都影響美觀。
5、表格一般和manuscrript放置在一個word文檔里部分期刊 需要單獨上傳表格。
作者信息：1、包括作者姓名、最高學位，作者單位（精確到部門），郵箱，地址，郵編，關鍵詞，內容，總結，項目基金，參考文獻，作者相片+簡介（一定要確保作者信息準確無誤，提交稿件之后這部分不能再作改動）。
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