國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱：IEEE T PLASMA SCI
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《Ieee Transactions On Plasma Science》是一本專注于PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領(lǐng)域的English學(xué)術(shù)期刊，創(chuàng)刊于1973年，由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版，出版周期Bimonthly。該刊發(fā)文范圍涵蓋PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS等領(lǐng)域，旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國(guó)內(nèi)外PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS工作者在該領(lǐng)域的科學(xué)研究等工作中取得的經(jīng)驗(yàn)、科研成果、技術(shù)革新、學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)等。該刊已被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄，在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中，該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科物理與天體物理3區(qū)，2023年影響因子為1.3。
The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理 | 4區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)：中科院分區(qū)是SCI期刊分區(qū)的一種，是由中國(guó)科學(xué)院國(guó)家科學(xué)圖書館制定出來(lái)的分區(qū)。主要有兩個(gè)版本，即基礎(chǔ)版和升級(jí)版。2019年中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表推出了升級(jí)版，實(shí)現(xiàn)了基礎(chǔ)版和升級(jí)版的并存過(guò)渡；升級(jí)版是對(duì)基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進(jìn)，將期刊由基礎(chǔ)版的13個(gè)學(xué)科擴(kuò)展至18個(gè)，科研評(píng)價(jià)將更加明確。
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 29 / 40 |
28.7%
|
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 30 / 40 |
26.25%
|
JCR分區(qū)：JCR（Journal Citation Reports）由科睿唯安公司（前身為湯森路透）開發(fā)。JCR沒有設(shè)置大類,只將期刊分為176個(gè)具體學(xué)科，也就是中科院分區(qū)中的小類學(xué)科。基于不同學(xué)科的當(dāng)年影響因子高低進(jìn)行排序，將期刊的數(shù)量均勻分為四個(gè)部分，Q1區(qū)代表學(xué)科分類中影響因子排名前25%的期刊，以此類推，Q2區(qū)為前25%-50%期刊，Q3區(qū)為前50%-75%期刊，Q4區(qū)為75%以后期刊。
CiteScore排名：
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Nuclear and High Energy Physics | Q2 | 42 / 87 |
52%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics | Q3 | 247 / 434 |
43%
|
CiteScore值計(jì)算方式：例如2024公布的CiteScore是將統(tǒng)計(jì)在 2020年-2023年間年所發(fā)表文章的引用次數(shù)除以在 2020年-2023年間所發(fā)表的發(fā)文總數(shù)。
CiteScore數(shù)據(jù)來(lái)源：是由全球著名學(xué)術(shù)出版商Elsevier（愛思唯爾）基于其Scopus數(shù)據(jù)庫(kù)推出的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)。CiteScore指數(shù)以四年區(qū)間為基準(zhǔn)來(lái)計(jì)算每本期刊的平均被引用次數(shù)，并提供期刊領(lǐng)域排名、期刊分區(qū)的相關(guān)信息，它的作用是測(cè)量期刊的篇均影響力。
近年中科院分區(qū)趨勢(shì)圖
近年IF值(影響因子)趨勢(shì)圖
影響因子：是美國(guó)科學(xué)信息研究所(ISI)的期刊引證報(bào)告(JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)。指的是某一期刊的文章在特定年份或時(shí)期被引用的頻率，是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo)。自1975年以來(lái)，每年定期發(fā)布于“期刊引證報(bào)告”(JCR)。
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| Overview of the HCPB Researc... | 12 |
| Two-Wave Cherenkov Oscillato... | 12 |
| High-Performance Filtering A... | 11 |
| Neutron Diagnostics in the L... | 10 |
| Characterization of a Compac... | 10 |
| A Primer on Pulsed Power and... | 10 |
| Preparation and Commissionin... | 9 |
| Recent Progress in the WCLL ... | 9 |
| Corona Discharge-Induced Rai... | 9 |
| Bifurcation Analysis for Dus... | 8 |
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| PHYS PLASMAS | 585 |
| J PHYS D APPL PHYS | 364 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 296 |
| J APPL PHYS | 236 |
| AIP ADV | 211 |
| FUSION ENG DES | 209 |
| IEEE ACCESS | 201 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 180 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 172 |
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| PHYS PLASMAS | 882 |
| J PHYS D APPL PHYS | 759 |
| IEEE T MAGN | 593 |
| J APPL PHYS | 583 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 427 |
| APPL PHYS LETT | 341 |
| PHYS REV LETT | 300 |
| REV SCI INSTRUM | 278 |
| IEEE T DIELECT EL IN | 268 |
1、建議稿件控制10頁(yè)以上，文章撰寫語(yǔ)言為英語(yǔ)；（單欄格式，單倍行距，內(nèi)容10號(hào)字體，文稿類型包含：原創(chuàng)研究(Original Research)、案例報(bào)告(Case Report)、文獻(xiàn)綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。
2、稿件重復(fù)率控制10%以內(nèi)，論文務(wù)必保證原創(chuàng)性、圖標(biāo)、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發(fā)表或引用過(guò)度的文章將不會(huì)被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機(jī)械性的稿件。
3、稿件必須有較好的英語(yǔ)表達(dá)水平，有圖，有表，有公式，有數(shù)據(jù)或設(shè)計(jì)，有算法（方案，模型），實(shí)驗(yàn)，仿真等；參考文獻(xiàn)控制25條以上，參考文獻(xiàn)引用一半以上控制在近5年以內(nèi)。
圖片和圖表要求：1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。
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3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。
4、線條不要細(xì)于0.25pt,也不能太粗，超過(guò)1.5pt,過(guò)細(xì)或過(guò)粗都影響美觀。
5、表格一般和manuscrript放置在一個(gè)word文檔里部分期刊 需要單獨(dú)上傳表格。
作者信息：1、包括作者姓名、最高學(xué)位，作者單位（精確到部門），郵箱，地址，郵編，關(guān)鍵詞，內(nèi)容，總結(jié)，項(xiàng)目基金，參考文獻(xiàn)，作者相片+簡(jiǎn)介（一定要確保作者信息準(zhǔn)確無(wú)誤，提交稿件之后這部分不能再作改動(dòng)）。
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中科院分區(qū) 4區(qū)
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中科院分區(qū) 4區(qū)
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