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            首頁 中科院4區(qū) 期刊介紹(非官網(wǎng))
            Journal Of Micromechanics And Microengineering雜志 加入收藏

            Gold OA文章占比:13.91%

            OA被引用占比:0.0241...

            開源占比:0.0884

            研究類文章占比:95.62%

            Journal Of Micromechanics And Microengineering

            國際標準簡稱:J MICROMECH MICROENG

            人氣 2028

            《Journal Of Micromechanics And Microengineering》是一本專注于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的English學(xué)術(shù)期刊,創(chuàng)刊于1991年,由IOP Publishing Ltd.出版商出版,出版周期Monthly。該刊發(fā)文范圍涵蓋ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC等領(lǐng)域,旨在及時、準確、全面地報道國內(nèi)外ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工作者在該領(lǐng)域的科學(xué)研究等工作中取得的經(jīng)驗、科研成果、技術(shù)革新、學(xué)術(shù)動態(tài)等。該刊已被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄,在中科院最新升級版分區(qū)表中,該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科工程技術(shù)4區(qū),2023年影響因子為2.4。

            • 4區(qū)

              中科院分區(qū)
            • Q2

              JCR分區(qū)
            • SCIE

              期刊收錄
            • 是否預(yù)警
            ISSN:0960-1317
            出版地區(qū):ENGLAND
            出版周期:Monthly
            E-ISSN:1361-6439
            創(chuàng)刊時間:1991
            出版語言:English
            是否OA開放訪問:未開放
            研究方向:工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合
            影響因子:2.4
            年發(fā)文量:137
            出版商:IOP Publishing Ltd.
            平均審稿速度: 約2.8個月

            Journal Of Micromechanics And Microengineering期刊簡介

            Journal of Micromechanics and Microengineering (JMM) primarily covers experimental work, however relevant modelling papers are considered where supported by experimental data.

            The journal is focussed on all aspects of:

            -nano- and micro- mechanical systems

            -nano- and micro- electomechanical systems

            -nano- and micro- electrical and mechatronic systems

            -nano- and micro- engineering

            -nano- and micro- scale science

            Please note that we do not publish materials papers with no obvious application or link to nano- or micro-engineering.

            Below are some examples of the topics that are included within the scope of the journal:

            -MEMS and NEMS:

            Including sensors, optical MEMS/NEMS, RF MEMS/NEMS, etc.

            -Fabrication techniques and manufacturing:

            Including micromachining, etching, lithography, deposition, patterning, self-assembly, 3d printing, inkjet printing.

            -Packaging and Integration technologies.

            -Materials, testing, and reliability.

            -Micro- and nano-fluidics:

            Including optofluidics, acoustofluidics, droplets, microreactors, organ-on-a-chip.

            -Lab-on-a-chip and micro- and nano-total analysis systems.

            -Biomedical systems and devices:

            Including bio MEMS, biosensors, assays, organ-on-a-chip, drug delivery, cells, biointerfaces.

            -Energy and power:

            Including power MEMS/NEMS, energy harvesters, actuators, microbatteries.

            -Electronics:

            Including flexible electronics, wearable electronics, interface electronics.

            -Optical systems.

            -Robotics.

            Journal Of Micromechanics And Microengineering中科院分區(qū)

            中科院分區(qū)2023年12月升級版

            大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
            工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

            中科院分區(qū)2022年12月升級版

            大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
            工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

            中科院分區(qū)2021年12月舊的升級版

            大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
            工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

            中科院分區(qū)2021年12月基礎(chǔ)版

            大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
            工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

            中科院分區(qū)2021年12月升級版

            大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
            工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

            中科院分區(qū)2020年12月舊的升級版

            大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
            工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

            中科院分區(qū):中科院分區(qū)是SCI期刊分區(qū)的一種,是由中國科學(xué)院國家科學(xué)圖書館制定出來的分區(qū)。主要有兩個版本,即基礎(chǔ)版和升級版。2019年中國科學(xué)院文獻情報中心期刊分區(qū)表推出了升級版,實現(xiàn)了基礎(chǔ)版和升級版的并存過渡;升級版是對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進,將期刊由基礎(chǔ)版的13個學(xué)科擴展至18個,科研評價將更加明確。

            JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

            按JIF指標學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
            學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 170 / 352
            51.8%
            學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 29 / 76
            62.5%
            學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 102 / 140
            27.5%
            學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179
            46.6%
            按JCI指標學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
            學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 200 / 354
            43.64%
            學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q3 46 / 76
            40.13%
            學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 82 / 140
            41.79%
            學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 106 / 179
            41.06%

            JCR分區(qū):JCR(Journal Citation Reports)由科睿唯安公司(前身為湯森路透)開發(fā)。JCR沒有設(shè)置大類,只將期刊分為176個具體學(xué)科,也就是中科院分區(qū)中的小類學(xué)科。基于不同學(xué)科的當(dāng)年影響因子高低進行排序,將期刊的數(shù)量均勻分為四個部分,Q1區(qū)代表學(xué)科分類中影響因子排名前25%的期刊,以此類推,Q2區(qū)為前25%-50%期刊,Q3區(qū)為前50%-75%期刊,Q4區(qū)為75%以后期刊。

            CiteScore 指數(shù)(2024年最新版)

            • CiteScore:4.5
            • SJR:0.476
            • SNIP:0.789

            CiteScore排名:

            學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
            大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q2 207 / 672
            69%
            大類:Engineering 小類:Mechanics of Materials Q2 146 / 398
            63%
            大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 292 / 797
            63%
            大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 118 / 284
            58%

            CiteScore值計算方式:例如2024公布的CiteScore是將統(tǒng)計在 2020年-2023年間年所發(fā)表文章的引用次數(shù)除以在 2020年-2023年間所發(fā)表的發(fā)文總數(shù)。

            CiteScore數(shù)據(jù)來源:是由全球著名學(xué)術(shù)出版商Elsevier(愛思唯爾)基于其Scopus數(shù)據(jù)庫推出的期刊評價指標。CiteScore指數(shù)以四年區(qū)間為基準來計算每本期刊的平均被引用次數(shù),并提供期刊領(lǐng)域排名、期刊分區(qū)的相關(guān)信息,它的作用是測量期刊的篇均影響力。

            其它數(shù)據(jù)分析對比

            近年中科院分區(qū)趨勢圖

            近年IF值(影響因子)趨勢圖

            影響因子:是美國科學(xué)信息研究所(ISI)的期刊引證報告(JCR)中的一項數(shù)據(jù)。指的是某一期刊的文章在特定年份或時期被引用的頻率,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個重要指標。自1975年以來,每年定期發(fā)布于“期刊引證報告”(JCR)。

            發(fā)文統(tǒng)計(統(tǒng)計區(qū)間:2023年-2024年)

            機構(gòu)名稱 發(fā)文量
            CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 33
            INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLO... 23
            UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYS... 20
            XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY 20
            ZHEJIANG UNIVERSITY 18
            SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSIT... 17
            DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOL... 15
            TSINGHUA UNIVERSITY 15
            CENTRE NATIONAL DE LA RECHER... 14
            NATIONAL TSING HUA UNIVERSIT... 13
            國家/地區(qū) 發(fā)文量
            CHINA MAINLAND 249
            USA 121
            Japan 42
            India 38
            South Korea 36
            GERMANY (FED REP GER) 33
            Canada 27
            Taiwan 23
            England 19
            France 18
            文章引用名稱 引用次數(shù)
            Piezoresistive microcantilev... 15
            High frequency, low power, e... 13
            A eutectic-alloy-infused sof... 11
            Improvement of energy conver... 9
            DREM2: a facile fabrication ... 9
            Nanogenerator for scavenging... 9
            Novel threshold pressure sen... 8
            Numerical and experimental i... 8
            Fabrication and characteriza... 8
            Targeted drug delivery techn... 8
            被引用期刊名稱 數(shù)量
            MICROMACHINES-BASEL 509
            J MICROMECH MICROENG 481
            SENSOR ACTUAT A-PHYS 330
            MICROSYST TECHNOL 313
            SENSORS-BASEL 276
            J MICROELECTROMECH S 190
            SCI REP-UK 130
            IEEE SENS J 129
            SENSOR ACTUAT B-CHEM 126
            LAB CHIP 124
            引用期刊名稱 數(shù)量
            J MICROMECH MICROENG 481
            LAB CHIP 281
            SENSOR ACTUAT A-PHYS 253
            APPL PHYS LETT 238
            J MICROELECTROMECH S 219
            SENSOR ACTUAT B-CHEM 152
            ADV MATER 132
            J APPL PHYS 116
            SCI REP-UK 98
            OPT EXPRESS 91

            投稿注意事項

            文章要求:

            1、建議稿件控制10頁以上,文章撰寫語言為英語;(單欄格式,單倍行距,內(nèi)容10號字體,文稿類型包含:原創(chuàng)研究(Original Research)、案例報告(Case Report)、文獻綜述(Literature Review)等;文件格式包含word、PDF、LaTeX等。

            2、稿件重復(fù)率控制10%以內(nèi),論文務(wù)必保證原創(chuàng)性、圖標、公式、引文等要素齊備,保證附屬資料的完整。已發(fā)表或引用過度的文章將不會被出版和檢索,禁止一稿多投,拒絕抄襲、機械性的稿件。

            3、稿件必須有較好的英語表達水平,有圖,有表,有公式,有數(shù)據(jù)或設(shè)計,有算法(方案,模型),實驗,仿真等;參考文獻控制25條以上,參考文獻引用一半以上控制在近5年以內(nèi)。

            圖片和圖表要求:

            1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ,TIFF格式 使用LZW壓縮。

            2、文件大小最大不超過20MB,不要以單個文件的形式上傳數(shù)據(jù)。

            3、彩色圖片的分辨率≥300dpi;黑白圖片的分辨率在≥500dpi;line art圖片類型的分辨率≥1000dpi;色彩模式建議采用RGB,除非期刊注明要CMYK。

            4、線條不要細于0.25pt,也不能太粗,超過1.5pt,過細或過粗都影響美觀。

            5、表格一般和manuscrript放置在一個word文檔里部分期刊 需要單獨上傳表格。

            作者信息:

            1、包括作者姓名、最高學(xué)位,作者單位(精確到部門),郵箱,地址,郵編,關(guān)鍵詞,內(nèi)容,總結(jié),項目基金,參考文獻,作者相片+簡介(一定要確保作者信息準確無誤,提交稿件之后這部分不能再作改動)。

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