國際標準簡稱：J LASER APPL
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《Journal Of Laser Applications》是一本專注于MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY領域的English學術期刊，創(chuàng)刊于1988年，由Laser Institute of America出版商出版，出版周期Quarterly。該刊發(fā)文范圍涵蓋MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY等領域，旨在及時、準確、全面地報道國內外MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY工作者在該領域的科學研究等工作中取得的經驗、科研成果、技術革新、學術動態(tài)等。該刊已被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄，在中科院最新升級版分區(qū)表中，該刊分區(qū)信息為大類學科工程技術4區(qū)，2023年影響因子為1.7。
The Journal of Laser Applications (JLA) is the scientific platform of the Laser Institute of America (LIA) and is published in cooperation with AIP Publishing. The high-quality articles cover a broad range from fundamental and applied research and development to industrial applications. Therefore, JLA is a reflection of the state-of-R&D in photonic production, sensing and measurement as well as Laser safety.
The following international and well known first-class scientists serve as allocated Editors in 9 new categories:
High Precision Materials Processing with Ultrafast Lasers
Laser Additive Manufacturing
High Power Materials Processing with High Brightness Lasers
Emerging Applications of Laser Technologies in High-performance/Multi-function Materials and Structures
Surface Modification
Lasers in Nanomanufacturing / Nanophotonics & Thin Film Technology
Spectroscopy / Imaging / Diagnostics / Measurements
Laser Systems and Markets
Medical Applications & Safety
Thermal Transportation
Nanomaterials and Nanoprocessing
Laser applications in Microelectronics.
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)：中科院分區(qū)是SCI期刊分區(qū)的一種，是由中國科學院國家科學圖書館制定出來的分區(qū)。主要有兩個版本，即基礎版和升級版。2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表推出了升級版，實現(xiàn)了基礎版和升級版的并存過渡；升級版是對基礎版的延續(xù)和改進，將期刊由基礎版的13個學科擴展至18個，科研評價將更加明確。
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 321 / 438 |
26.8%
|
| 學科：OPTICS | SCIE | Q3 | 73 / 119 |
39.1%
|
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 125 / 179 |
30.4%
|
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 267 / 438 |
39.16%
|
| 學科：OPTICS | SCIE | Q3 | 75 / 120 |
37.92%
|
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 111 / 179 |
38.27%
|
JCR分區(qū)：JCR（Journal Citation Reports）由科睿唯安公司（前身為湯森路透）開發(fā)。JCR沒有設置大類,只將期刊分為176個具體學科，也就是中科院分區(qū)中的小類學科。基于不同學科的當年影響因子高低進行排序，將期刊的數(shù)量均勻分為四個部分，Q1區(qū)代表學科分類中影響因子排名前25%的期刊，以此類推，Q2區(qū)為前25%-50%期刊，Q3區(qū)為前50%-75%期刊，Q4區(qū)為75%以后期刊。
CiteScore排名：
| 學科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Instrumentation | Q2 | 66 / 141 |
53%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q2 | 106 / 224 |
52%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 145 / 284 |
49%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Biomedical Engineering | Q3 | 177 / 303 |
41%
|
CiteScore值計算方式：例如2024公布的CiteScore是將統(tǒng)計在 2020年-2023年間年所發(fā)表文章的引用次數(shù)除以在 2020年-2023年間所發(fā)表的發(fā)文總數(shù)。
CiteScore數(shù)據(jù)來源：是由全球著名學術出版商Elsevier（愛思唯爾）基于其Scopus數(shù)據(jù)庫推出的期刊評價指標。CiteScore指數(shù)以四年區(qū)間為基準來計算每本期刊的平均被引用次數(shù)，并提供期刊領域排名、期刊分區(qū)的相關信息，它的作用是測量期刊的篇均影響力。
近年中科院分區(qū)趨勢圖
近年IF值(影響因子)趨勢圖
影響因子：是美國科學信息研究所(ISI)的期刊引證報告(JCR)中的一項數(shù)據(jù)。指的是某一期刊的文章在特定年份或時期被引用的頻率，是衡量學術期刊影響力的一個重要指標。自1975年以來，每年定期發(fā)布于“期刊引證報告”(JCR)。
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| High efficiency femtosecond ... | 12 |
| Microstructure evolution dur... | 12 |
| Direct measurements of laser... | 10 |
| Toward application of hierar... | 9 |
| Nanostructuring of laser tex... | 9 |
| Comparative study between CW... | 8 |
| Comparative study of stainle... | 7 |
| Experimental and theoretical... | 6 |
| Estimation of melt pool size... | 6 |
| Wettability transition modes... | 6 |
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J LASER APPL | 167 |
| OPT LASER TECHNOL | 87 |
| INT J ADV MANUF TECH | 81 |
| MATERIALS | 62 |
| J MANUF PROCESS | 54 |
| J MATER PROCESS TECH | 54 |
| APPL SURF SCI | 47 |
| INT J HEAT MASS TRAN | 42 |
| ADDIT MANUF | 37 |
| METALS-BASEL | 31 |
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J LASER APPL | 167 |
| APPL SURF SCI | 123 |
| J MATER PROCESS TECH | 121 |
| OPT LASER TECHNOL | 85 |
| MATER DESIGN | 76 |
| INT J ADV MANUF TECH | 71 |
| MAT SCI ENG A-STRUCT | 62 |
| J APPL PHYS | 54 |
| APPL PHYS A-MATER | 52 |
| J PHYS D APPL PHYS | 52 |
1、建議稿件控制10頁以上，文章撰寫語言為英語；（單欄格式，單倍行距，內容10號字體，文稿類型包含：原創(chuàng)研究(Original Research)、案例報告(Case Report)、文獻綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。
2、稿件重復率控制10%以內，論文務必保證原創(chuàng)性、圖標、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發(fā)表或引用過度的文章將不會被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機械性的稿件。
3、稿件必須有較好的英語表達水平，有圖，有表，有公式，有數(shù)據(jù)或設計，有算法（方案，模型），實驗，仿真等；參考文獻控制25條以上，參考文獻引用一半以上控制在近5年以內。
圖片和圖表要求：1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。
2、文件大小最大不超過20MB，不要以單個文件的形式上傳數(shù)據(jù)。
3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。
4、線條不要細于0.25pt,也不能太粗，超過1.5pt,過細或過粗都影響美觀。
5、表格一般和manuscrript放置在一個word文檔里部分期刊 需要單獨上傳表格。
作者信息：1、包括作者姓名、最高學位，作者單位（精確到部門），郵箱，地址，郵編，關鍵詞，內容，總結，項目基金，參考文獻，作者相片+簡介（一定要確保作者信息準確無誤，提交稿件之后這部分不能再作改動）。
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