來源：學術之家整理 2026-04-11 18:03:17
《Plasma Sources Science & Technology》中文名稱：《等離子源科技》，創刊于1992年，由IOP Publishing Ltd.出版商出版，出版周期Bimonthly。
等離子體源科學與技術 (PSST) 報告了在各種氣壓和等離子體密度范圍內運行的低溫等離子體和電離氣體，這些氣體具有不同的電離程度。PSST 的重點是這些等離子體的基礎科學、它們的來源以及由它們引發或維持的物理和化學過程，這些過程通過理論、計算或實驗技術闡明。PSST 還報告了研究低溫等離子體所需的新的實驗或理論得出的基礎數據（例如截面、傳輸系數）。與這些等離子體的技術和應用相關的報告應與等離子體狀態下發生的科學和基本過程緊密相關。
旨在及時、準確、全面地報道國內外PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS工作者在該領域的科學研究等工作中取得的經驗、科研成果、技術革新、學術動態等。
| 國家/地區 | 發文量 |
| USA | 198 |
| CHINA MAINLAND | 137 |
| GERMANY (FED REP GER) | 136 |
| France | 122 |
| Russia | 108 |
| Netherlands | 61 |
| Japan | 56 |
| Czech Republic | 53 |
| England | 40 |
| Italy | 34 |
| 文章引用名稱 | 引用次數 |
| Review on experimental and t... | 23 |
| The importance of thermal di... | 20 |
| Comparison of six simulation... | 19 |
| The LisbOn KInetics Boltzman... | 17 |
| Energetic ions during plasma... | 17 |
| Foundations of low-temperatu... | 17 |
| Foundations of High-Pressure... | 16 |
| Kinetic study of low-tempera... | 16 |
| Atmospheric-pressure pulsed ... | 15 |
| Modelling the helium plasma ... | 14 |
| 被引用期刊名稱 | 數量 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 745 |
| PHYS PLASMAS | 733 |
| IEEE T PLASMA SCI | 427 |
| J APPL PHYS | 370 |
| PLASMA CHEM PLASMA P | 186 |
| JPN J APPL PHYS | 171 |
| PLASMA PROCESS POLYM | 165 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 148 |
| VACUUM | 110 |
| 引用期刊名稱 | 數量 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 1276 |
| J APPL PHYS | 702 |
| PHYS PLASMAS | 595 |
| APPL PHYS LETT | 335 |
| IEEE T PLASMA SCI | 296 |
| J CHEM PHYS | 236 |
| PHYS REV A | 227 |
| PHYS REV LETT | 189 |
| PHYS REV E | 167 |
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