來源：學(xué)術(shù)之家整理 2025-03-18 15:44:38
《Revista Chilena De Derecho Y Tecnologia》中文名稱：《智利法律與技術(shù)雜志》，由Universidad de Chile出版商出版。
《智利法律與技術(shù)雜志》是由智利大學(xué)法學(xué)院下屬的計算機(jī)法研究中心出版的學(xué)術(shù)期刊。該雜志致力于發(fā)表與法律和技術(shù)交叉領(lǐng)域相關(guān)的研究文章，包括但不限于知識產(chǎn)權(quán)、電子商務(wù)、數(shù)據(jù)保護(hù)法、人工智能法規(guī)以及其他新興技術(shù)領(lǐng)域的法律問題。期刊的目標(biāo)是促進(jìn)學(xué)術(shù)交流，提供一個專門討論法律與科技融合問題的平臺，并為立法者、律師、學(xué)者和學(xué)生提供深入的分析和研究。
作為專注于法律與技術(shù)交叉領(lǐng)域的期刊，其在該領(lǐng)域內(nèi)具有特定的學(xué)術(shù)重要性。它不僅為智利國內(nèi)的研究人員提供了發(fā)表研究成果的機(jī)會，也吸引了國際學(xué)者的關(guān)注，從而在全球范圍內(nèi)對法律實踐和理論發(fā)展產(chǎn)生影響。期刊的主要讀者群體包括法律專業(yè)人士、技術(shù)專家、政策制定者、學(xué)者和研究生。
1、建議稿件控制10頁以上，文章撰寫語言為英語；（單欄格式，單倍行距，內(nèi)容10號字體，文稿類型包含：原創(chuàng)研究(Original Research)、案例報告(Case Report)、文獻(xiàn)綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。
2、稿件重復(fù)率控制10%以內(nèi)，論文務(wù)必保證原創(chuàng)性、圖標(biāo)、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發(fā)表或引用過度的文章將不會被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機(jī)械性的稿件。
3、稿件必須有較好的英語表達(dá)水平，有圖，有表，有公式，有數(shù)據(jù)或設(shè)計，有算法（方案，模型），實驗，仿真等；參考文獻(xiàn)控制25條以上，參考文獻(xiàn)引用一半以上控制在近5年以內(nèi)。
1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。
2、文件大小最大不超過20MB，不要以單個文件的形式上傳數(shù)據(jù)。
3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。
4、線條不要細(xì)于0.25pt,也不能太粗，超過1.5pt,過細(xì)或過粗都影響美觀。
5、表格一般和manuscrript放置在一個word文檔里部分期刊 需要單獨上傳表格。
1、包括作者姓名、最高學(xué)位，作者單位（精確到部門），郵箱，地址，郵編，關(guān)鍵詞，內(nèi)容，總結(jié)，項目基金，參考文獻(xiàn)，作者相片+簡介（一定要確保作者信息準(zhǔn)確無誤，提交稿件之后這部分不能再作改動）。
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