來源：學術之家整理 2025-03-18 15:39:29
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本專注于ENGINEERING, CHEMICAL領域的English學術期刊，創刊于1981年，由Springer US出版商出版，出版周期Quarterly。該刊已被SCIE數據庫收錄。根據中科院分區，該雜志在大類學科工程技術中位列3區，小類學科ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工中位列3區，進一步證明了其在學術界的地位。
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在JCR分區中屬于Q2，按JIF指標學科分區中學科：ENGINEERING, CHEMICAL為Q3，按JCI指標學科分區中學科：ENGINEERING, CHEMICAL為Q2，表明其在全球范圍內具有較高的學術影響力。
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Plasma Chemistry And Plasma Processing中科院分區
| 大類學科 | 分區 | 小類學科 | 分區 | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 3區 | ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 3區 3區 3區 | 否 | 否 |
中科院分區：中科院分區是SCI期刊分區的一種，是由中國科學院國家科學圖書館制定出來的分區。主要有兩個版本，即基礎版和升級版。2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區表推出了升級版，實現了基礎版和升級版的并存過渡；升級版是對基礎版的延續和改進，將期刊由基礎版的13個學科擴展至18個，科研評價將更加明確。
近年IF值(影響因子)趨勢圖
影響因子：是美國科學信息研究所(ISI)的期刊引證報告(JCR)中的一項數據。指的是某一期刊的文章在特定年份或時期被引用的頻率，是衡量學術期刊影響力的一個重要指標。自1975年以來，每年定期發布于“期刊引證報告”(JCR)。
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