《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是幾區(qū)？

中科院分區(qū)在SCI期刊中具有重要地位，主要體現(xiàn)在以下幾個方面：

投稿參考：中科院分區(qū)為科研人員選擇投稿期刊提供了重要依據(jù)。高分區(qū)期刊通常具有較高的學(xué)術(shù)聲譽(yù)和影響力，科研人員可以根據(jù)自己的研究領(lǐng)域和成果水平，選擇合適分區(qū)的期刊投稿，提高論文被接受和發(fā)表的機(jī)會。

學(xué)術(shù)評價(jià)：國內(nèi)許多高校和科研機(jī)構(gòu)在對科研人員進(jìn)行績效考核、職稱評定、科研獎勵等方面，常常將中科院分區(qū)作為重要的評價(jià)指標(biāo)之一。

學(xué)術(shù)影響力提升：進(jìn)入中科院分區(qū)表是對期刊學(xué)術(shù)質(zhì)量和影響力的一種認(rèn)可，尤其是對于一些新興期刊或發(fā)展中的期刊來說，獲得較好的分區(qū)能夠吸引更多優(yōu)秀的稿件和讀者，進(jìn)一步提升期刊的學(xué)術(shù)影響力。

雜志簡介

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本在物理與天體物理領(lǐng)域具有重要影響力的學(xué)術(shù)期刊，由出版社Springer US出版，出版地區(qū)為：UNITED STATES。

一、基本信息

創(chuàng)刊時(shí)間：1981年
出版周期：Quarterly
ISSN：0272-4324，E-ISSN：1572-8986

定位：

本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學(xué)和等離子體處理基礎(chǔ)和應(yīng)用研究的原創(chuàng)論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應(yīng)用的研究。此類應(yīng)用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應(yīng)用（包括等離子體醫(yī)學(xué)和農(nóng)業(yè)）、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應(yīng)用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學(xué)的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學(xué)動力學(xué)研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關(guān)的等離子體化學(xué)、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。

二、內(nèi)容特色

內(nèi)容特色：文章風(fēng)格兼顧專業(yè)性與可讀性，適合不同背景的讀者。

三、學(xué)科領(lǐng)域與覆蓋范圍

主要學(xué)科：物理與天體物理-工程：化工。
覆蓋范圍：該刊發(fā)文范圍涵蓋ENGINEERING, CHEMICAL等領(lǐng)域。

四、學(xué)術(shù)影響力與評價(jià)

影響因子與分區(qū)：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的影響因子為2.6 ，JCR分區(qū)：Q2區(qū)，中科院分區(qū)：大類學(xué)科：工程技術(shù)，分區(qū)：3區(qū)，小類學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工，分區(qū)：3區(qū)。

發(fā)文量與Gold OA占比：年發(fā)文量：123，Gold OA文章占比：14.18%。